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[導(dǎo)讀]臺(tái)積電2010年因應(yīng)市場(chǎng)需求積極擴(kuò)充產(chǎn)能,除落腳于中科第3座超大型12寸晶圓廠日前正式動(dòng)土,未來(lái)將直接投產(chǎn)28奈米制程,并加速22奈米以下先進(jìn)制程研發(fā)外,位于大陸上海松江8寸廠亦同步擴(kuò)充產(chǎn)能,近期已擴(kuò)充產(chǎn)能達(dá)單月

臺(tái)積電2010年因應(yīng)市場(chǎng)需求積極擴(kuò)充產(chǎn)能,除落腳于中科第3座超大型12寸晶圓廠日前正式動(dòng)土,未來(lái)將直接投產(chǎn)28奈米制程,并加速22奈米以下先進(jìn)制程研發(fā)外,位于大陸上海松江8寸廠亦同步擴(kuò)充產(chǎn)能,近期已擴(kuò)充產(chǎn)能達(dá)單月2萬(wàn)片,未來(lái)將再擴(kuò)充4萬(wàn)片產(chǎn)能,以因應(yīng)大陸市場(chǎng)需求。

臺(tái)積電旗下3座12寸晶圓廠包括新竹晶圓12廠(Fab 12)、晶圓14廠(Fab 14),以及剛進(jìn)行動(dòng)土典禮的晶圓15廠(Fab 15),3座超大型晶圓廠皆加速擴(kuò)充產(chǎn)能,目前Fab 12與Fab 14合計(jì)月產(chǎn)能已超過(guò)20萬(wàn)片,預(yù)計(jì)2010年底將擴(kuò)充至24萬(wàn)片。

至于Fab 15第1期預(yù)計(jì)于2011年6月開(kāi)始裝機(jī),2012年首季進(jìn)行28奈米制程量產(chǎn),月產(chǎn)能達(dá)4萬(wàn)~5萬(wàn)片,第2期則預(yù)計(jì)于2012年第2或第3季進(jìn)行設(shè)備進(jìn)廠,未來(lái)全部完工后月產(chǎn)能將逾10萬(wàn)片。

臺(tái)積電除擴(kuò)充12寸廠產(chǎn)能,其實(shí)在8寸廠方面亦積極擴(kuò)充,臺(tái)積電營(yíng)運(yùn)資深副總劉德音指出,上海松江廠近期已擴(kuò)充單月2萬(wàn)片產(chǎn)能,未來(lái)將再擴(kuò)充4萬(wàn)片產(chǎn)能,其中以大陸需求最為強(qiáng)勁。在技術(shù)領(lǐng)先、擴(kuò)產(chǎn)效益顯現(xiàn),加上接單持續(xù)暢旺,業(yè)界預(yù)估臺(tái)積電第3季可望再創(chuàng)2010年?duì)I運(yùn)高峰。

在先進(jìn)制程方面,臺(tái)積電28奈米低功率制程已于1月量產(chǎn),28奈米高速制程預(yù)計(jì)9月推出,12月則將正式提供結(jié)合高速與低功率制程的28奈米代工服務(wù),待新竹Fab 12正式量產(chǎn)28奈米制程后,中科Fab 15亦將于2012年首季量產(chǎn)28奈米。

事實(shí)上,臺(tái)積電40奈米以下高階制程產(chǎn)品比重不斷提高,預(yù)期至2014年高階制程產(chǎn)品將比2008年大增150%,臺(tái)積電亦積極進(jìn)行22/20奈米制程研發(fā),首臺(tái)深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)2011年到位,將先安裝于新竹Fab 12,不過(guò),臺(tái)積電亦進(jìn)行無(wú)光罩電子束制程研發(fā),未來(lái)兩種技術(shù)可能同時(shí)并進(jìn)。

另外,位于新加坡SSMC(Systems on Silicon Manufacturing Company),由臺(tái)積電持股40%,恩智浦(NXP)持股60%,以0.25與0.14微米制程為主,其中逾半數(shù)產(chǎn)能供應(yīng)給NXP。SSMC日前歡度 10周年慶,宣布投資3,000萬(wàn)美元,用以擴(kuò)充產(chǎn)能與招募人才。目前SSMC約有1,300名員工,看好半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣復(fù)蘇力道及后續(xù)需求,正積極征才,預(yù)估2010年底員工數(shù)將達(dá)1,500名。

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