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當(dāng)前位置:首頁(yè) > 廠商動(dòng)態(tài) > 羅德與施瓦茨
[導(dǎo)讀]為了進(jìn)一步挖掘5G的巨大潛力,5G已經(jīng)開(kāi)始演進(jìn)到R16或者更高的版本。新一代蜂窩技術(shù)通常每10年出現(xiàn)一次,因此,產(chǎn)業(yè)界眾多通信設(shè)備廠商以及高校研究機(jī)構(gòu)對(duì)于6G前沿技術(shù)的研究也早已開(kāi)始。而RIS (Reconfigurable Intelligent Surface, 可重構(gòu)智能超表面)是6G研究的重點(diǎn)課題之一。近日,為全面評(píng)估RIS部署效果以及性能,羅德與施瓦茨(以下簡(jiǎn)稱"R&S"公司)聯(lián)合清華大學(xué)、行晟科技等多家單位開(kāi)展了RIS技術(shù)評(píng)估與試驗(yàn)。

為了進(jìn)一步挖掘5G的巨大潛力,5G已經(jīng)開(kāi)始演進(jìn)到R16或者更高的版本。新一代蜂窩技術(shù)通常每10年出現(xiàn)一次,因此,產(chǎn)業(yè)界眾多通信設(shè)備廠商以及高校研究機(jī)構(gòu)對(duì)于6G前沿技術(shù)的研究也早已開(kāi)始。而RIS (Reconfigurable Intelligent Surface, 可重構(gòu)智能超表面)是6G研究的重點(diǎn)課題之一。近日,為全面評(píng)估RIS部署效果以及性能,羅德與施瓦茨(以下簡(jiǎn)稱"R&S"公司)聯(lián)合清華大學(xué)、行晟科技等多家單位開(kāi)展了RIS技術(shù)評(píng)估與試驗(yàn)。

RIS可以通過(guò)編程的方式對(duì)空間電磁波的相位進(jìn)行調(diào)控,將信號(hào)反射到盲區(qū),進(jìn)而增強(qiáng)覆蓋和提升用戶體驗(yàn)。其具有低成本、低能耗、易部署等特點(diǎn),在6G研究中受到廣泛關(guān)注,屬于熱門(mén)候選技術(shù)。此次技術(shù)試驗(yàn)主要評(píng)估Sub-6GHz RIS和毫米波RIS在室內(nèi)、室外等不同場(chǎng)景下的部署效果以及性能。測(cè)試條件涵蓋有無(wú)RIS部署、不同的入射角和反射角、不同的部署距離等。性能指標(biāo)參數(shù)主要有RSRP、吞吐量等。各參與單位優(yōu)勢(shì)互補(bǔ),通力合作,高效地完成了多個(gè)RIS測(cè)試項(xiàng)目,為RIS技術(shù)發(fā)展提供了強(qiáng)有力的論據(jù)和數(shù)據(jù)支撐。

RIS驗(yàn)證環(huán)境分為室內(nèi)測(cè)試和室外測(cè)試,室內(nèi)測(cè)試主要包括:RIS被測(cè)件以及測(cè)試儀表。RIS被測(cè)件采用專業(yè)RIS設(shè)備供應(yīng)商行晟科技的RIS產(chǎn)品,其中Sub-6G的RIS陣面尺寸為860mm*860mm,陣元為20x20,毫米波的RIS陣面尺寸為180mm*180mm,陣元為32x32。測(cè)試儀表包括:用于發(fā)送不同頻段標(biāo)準(zhǔn)5G參考測(cè)試信號(hào)的SMW200A矢量信號(hào)源;用于測(cè)量RSRP等參數(shù)的TSME6掃頻儀。通過(guò)改變測(cè)試條件,驗(yàn)證RIS超表面在不同條件下的性能指標(biāo)是否符合設(shè)計(jì)預(yù)期。

室外測(cè)試采用了真實(shí)的網(wǎng)絡(luò)環(huán)境,可以是Sub-6G或者毫米波網(wǎng)絡(luò)。使用Qualipoc軟件和路測(cè)終端、TSME6掃頻儀測(cè)試RSRP以及吞吐量等指標(biāo),驗(yàn)證在真實(shí)網(wǎng)絡(luò)環(huán)境下RIS是否可以解決盲點(diǎn)覆蓋等問(wèn)題。

室內(nèi)RIS測(cè)試場(chǎng)景(一)

室內(nèi)RIS測(cè)試場(chǎng)景(二)

暗室環(huán)境RIS測(cè)試

除此之外,本次測(cè)試還驗(yàn)證了RIS超表面在暗室環(huán)境下的性能,使用信號(hào)源SMW200A、矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀以及FSW43頻譜儀測(cè)試天線方向圖以及鄰道抑制比(ACLR)等指標(biāo)。

通過(guò)此次聯(lián)合測(cè)試,參與各方都對(duì)RIS功能、性能指標(biāo)有了全面的了解,為未來(lái)的設(shè)計(jì)方向提供了參考。未來(lái)R&S將與合作單位進(jìn)一步深入研究RIS技術(shù),組織和參與更多的測(cè)試并參與標(biāo)準(zhǔn)化工作,為RIS發(fā)展做好扎實(shí)的論證工作。

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