半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的到來,產(chǎn)品的電路的誕生開啟了電子工業(yè)時(shí)代
隨著產(chǎn)業(yè)從小規(guī)模實(shí)驗(yàn)室生產(chǎn)到巨型自動(dòng)化工廠轉(zhuǎn)變,產(chǎn)業(yè)驅(qū)動(dòng)和經(jīng)濟(jì)改變了。大量的特種材料和設(shè)備業(yè)已經(jīng)開發(fā)出來以支撐芯片制造。全球半導(dǎo)體是一個(gè)3000億美元的產(chǎn)業(yè),并且它已回饋1.2萬億美元到全球電子系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)。進(jìn)一步講,納米技術(shù)和世界范圍消費(fèi)市場(chǎng)的爆發(fā)正在以伸展的方式塑造半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來。晶圓制造已經(jīng)產(chǎn)生年銷售約600億美元的設(shè)備產(chǎn)業(yè)(代表性的銷售每個(gè)晶圓的15%-20%)。
01三極管的誕生1906年,Lee Deforest發(fā)現(xiàn)了真空三極管,從此,電子工業(yè)時(shí)代開始了!
真空三極使得收音機(jī)、電視機(jī)和其他消費(fèi)類電子產(chǎn)品得以存在。但是,真空管有一系列的缺點(diǎn),如體積大、易碎、耗能多、老化快等,所以固體的真空管呼之欲出。
終于,1947年12月23日,世界上第一個(gè)晶體管在美國貝爾實(shí)驗(yàn)室誕生。發(fā)明三極管的三位科學(xué)家:John Bardeen、Walter BratTIn和William Shockley獲得了1956年的諾貝爾物理獎(jiǎng)。
可以這么說,晶體管正式打開了我們現(xiàn)在集成電路生產(chǎn)之門,其意義是非常巨大的!
02集成電路時(shí)代的到來由于之前的分立器件電路在功能和制造上越來越力不從心,所以它的統(tǒng)治地位在1959年走到了盡頭。
也正是在這一年,供職于德州儀器公司的青年工程師Jack Kilby首次在一塊鍺半導(dǎo)體材料上制成了一個(gè)完整的電路。他的發(fā)明由幾個(gè)晶體管、二極管、電容器和利用鍺芯片天然電阻的電阻器組成。這以發(fā)明便是集成電路,這也是世界上首次成功地在一塊半導(dǎo)體基材上做出了完整地電路。
從1947年開始,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)就已經(jīng)呈現(xiàn)出在新工藝和工藝提高上的持續(xù)發(fā)展。工藝的提高導(dǎo)致了具有更高集成度和可靠性的集成電路的產(chǎn)生,從而推動(dòng)了電子工業(yè)的革命。
工藝的改進(jìn)分為兩大類:
工藝和結(jié)構(gòu)。工藝的改進(jìn)是指以更小的尺寸來制造器件和電路,并使之具有更高密度、更多數(shù)量和更高的可靠性。結(jié)構(gòu)的改進(jìn)是指新器件設(shè)計(jì)上的發(fā)明使電路的性能更好,實(shí)現(xiàn)更佳的能耗控制和更高的可靠性。
集成電路中器件的尺寸和數(shù)量是集成電路發(fā)展的兩個(gè)共同標(biāo)志。器件的尺寸是以設(shè)計(jì)中的最小尺寸來表示的,稱為特征圖形尺寸,通常用微米和納米來表示。1um約為人頭發(fā)直徑的1/100。1nm是1um的1/1000。半導(dǎo)體器件一個(gè)更為專業(yè)的標(biāo)志是珊條寬度。目前,產(chǎn)業(yè)界正推向5nm的珊條寬度。
04摩爾定律
Intel公司的創(chuàng)始人之一Gordon Moore于1956年預(yù)言在芯片的晶體管數(shù)量會(huì)每年翻一番,這個(gè)預(yù)言被稱為摩爾定律。此后,他更新該定律為每?jī)赡攴环I(yè)界觀察家們已經(jīng)使用這個(gè)定律來預(yù)測(cè)未來芯片的密度。根據(jù)多年來的實(shí)踐證明,它是非常準(zhǔn)確的一個(gè)預(yù)言,一定程度上,它推動(dòng)了技術(shù)的進(jìn)步。
有人猜測(cè),芯片密度可能超過摩爾定律的預(yù)測(cè),這其實(shí)也是有依據(jù)的,畢竟原子尺寸就那么大,而且到了量子尺寸的時(shí)候,原子之間的相互作用并不遵從牛頓的理論,也不遵從愛因斯坦的相對(duì)論。
在一個(gè)芯片中元器件的密度確實(shí)遵循摩爾定律持續(xù)增加。半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)適應(yīng)摩爾定律作為未來芯片的密度和性能提高的推動(dòng)者。這些目標(biāo)被加入到半導(dǎo)體國際技術(shù)路線圖最新的版本中。





