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[導(dǎo)讀]   半導(dǎo)體FAB廠 FAQ100問   影響工廠成本的主要因素有哪些?   答:Direct Material 直接材料,例如:蕊片 Indirect Material間接材料,

  半導(dǎo)體FAB廠 FAQ100問

  影響工廠成本的主要因素有哪些?

  答:Direct Material 直接材料,例如:蕊片 Indirect Material間接材料,例如氣體… Labor人力 Fixed Manufacturing機(jī)器折舊,維修,研究費用……等 ProducTIon Support其它相關(guān)單位所花費的費用

  在FAB內(nèi),間接物料指哪些?

  答:Gas 氣體 Chemical 酸,堿化學(xué)液 PHOTO Chemical 光阻,顯影液 Slurry 研磨液 Target 靶材 Quartz 石英材料 Pad & Disk 研磨墊 Container 晶舟盒(用來放蕊片) Control Wafer 控片 Test Wafe r測試,實驗用的蕊片

  什幺是變動成本(Variable Cost)?

  答:成本隨生產(chǎn)量之增減而增減.例如:直接材料,間接材料

  什幺是固定成本(Fixed Cost)?

  答:此種成本與產(chǎn)量無關(guān),而與每一期間保持一固定數(shù)額.例如:設(shè)備租金,房屋折舊及檵器折舊

  Yield(良率)會影響成本嗎?如何影響?

  答:Fab yield= 若無報廢產(chǎn)生,投入完全等于產(chǎn)出,則成本耗費最小CP Yield:CP Yield 指測試一片芯片上所得到的有效的IC數(shù)目。當(dāng)產(chǎn)出芯片上的有效IC數(shù)目越多,即表示用相同制造時間所得到的效益愈大.

  生產(chǎn)周期(Cycle TIme)對成本(Cost)的影響是什幺?

  答:生產(chǎn)周期愈短,則工廠制造成本愈低。正面效益如下: (1) 積存在生產(chǎn)線上的在制品愈少 (2) 生產(chǎn)材料積存愈少 (3) 節(jié)省管理成本 (4) 產(chǎn)品交期短,贏得客戶信賴,建立公司信譽

  FAC

  根據(jù)工藝需求排氣分幾個系統(tǒng)?

  答:分為一般排氣(General)、酸性排氣(Scrubbers)、堿性排氣(Ammonia)和有機(jī)排氣(Solvent) 四個系統(tǒng)。

  高架 地板分有孔和無孔作用?

  答:使循環(huán)空氣能流通 ,不起塵,保證潔凈房內(nèi)的潔凈度; 防靜電;便于HOOK-UP。

  離子發(fā)射系統(tǒng)作用

  答:離子發(fā)射系統(tǒng),防止靜電

  SMIC潔凈等級區(qū)域劃分

  答:Mask Shop class 1 & 100Fab1 & Fab2 Photo and process area: Class 100Cu-line Al-Line OS1 L3 OS1 L4 tesTIng Class 1000

  什幺是制程工藝真空系統(tǒng)(PV)

  答:是提供廠區(qū)無塵室生產(chǎn)及測試機(jī)臺在制造過程中所需的工藝真空;如真空吸筆、光阻液涂布、吸芯片用真空源等。該系統(tǒng)提供一定的真空壓力(真空度大于 80 kpa)和流量,每天24小時運行

  什幺是MAU(Make Up Air Unit),新風(fēng)空調(diào)機(jī)組作用

  答:提供潔凈室所需之新風(fēng),對新風(fēng)濕度,溫度,及潔凈度進(jìn)行控制,維持潔凈室正壓和濕度要求。

  House Vacuum System 作用

  答:HV(House Vacuum)系統(tǒng)提供潔凈室制程區(qū)及回風(fēng)區(qū)清潔吸取微塵粒子之真空源,其真空度較低。使用方法為利用軟管連接事先已安裝在高架地板下或柱子內(nèi)的真空吸孔,打開運轉(zhuǎn)電源。此系統(tǒng)之運用可減低清潔時的污染。

  Filter Fan Unit System(FFU)作用

  答:FFU系統(tǒng)保證潔凈室內(nèi)一定的風(fēng)速和潔凈度,由Fan和Filter(ULPA)組成。

  什幺是Clean Room 潔凈室系統(tǒng)

  答:潔凈室系統(tǒng)供應(yīng)給制程及機(jī)臺設(shè)備所需之潔凈度、溫度、濕度、正壓、氣流條件等環(huán)境要求。

  Clean room spec:標(biāo)準(zhǔn)

  答:Temperature 23 °C ± 1°C(Photo:23 °C ± 0.5°C)Humidity 45%± 5%(Photo:45%± 3% )Class 100Overpressure +15paAir velocity 0.4m/s ± 0.08m/s

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