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[導讀]10月12日消息,三星宣布開始量產基于極紫外光(EUV)技術的14nmDRAM。繼去年3月三星推出首款EUVDRAM后,又將EUV層數(shù)增加至5層,為其DDR5解決方案提供當下更為優(yōu)質、先進的DRAM工藝。三星電子高級副總裁兼DRAM產品與技術主管JooyoungLee表示,“通過...


10月12日消息,三星宣布開始量產基于極紫外光(EUV)技術的14nm DRAM。繼去年3月三星推出首款EUV DRAM后,又將EUV層數(shù)增加至5層,為其DDR5解決方案提供當下更為優(yōu)質、先進的DRAM工藝。


三星電子高級副總裁兼DRAM產品與技術主管Jooyoung Lee表示,“通過開拓關鍵的圖案(key patterning)技術,三星活躍全球DRAM市場近三十年。如今,三星正通過多層EUV技術,樹立了一座新的技術里程碑,實現(xiàn)了更加微型化的14nm工藝,而這也是傳統(tǒng)氟化氬(ArF)工藝無法做到的。在此基礎上,三星將繼續(xù)提供極具差異化的內存解決方案,充分滿足5G、人工智能和元宇宙等數(shù)據驅動的時代對更高性能和更大容量的需求?!?/span>


隨著DRAM工藝不斷縮小至10nm范圍,EUV技術變得越來越重要,因為它能提升圖案準確性,從而獲得更高性能和更大產量。通過在14nm DRAM中應用5個EUV層,三星實現(xiàn)了自身最高的單位容量,同時,整體晶圓生產率提升了約20%。此外,與上一代DRAM工藝相比,14nm工藝可幫助降低近20%的功耗。


根據最新DDR5標準,三星的14nm DRAM將有助于釋放出之前產品所未有的速度:高達7.2Gbps,比DDR4的3.2Gbps快兩倍多。


三星計劃擴展其14nm DDR5產品組合,以支持數(shù)據中心、超級計算機和企業(yè)服務器應用。另外,三星預計將其14nm DRAM芯片容量提升至24Gb,以更好滿足全球IT系統(tǒng)快速增長的數(shù)據需求。


值得注意的是,今年1月,美光宣布10nm級第4代(1a)DRAM量產成功,SK海力士也于7月開始量產應用EUV的1a DRAM。雖然他們沒有指明具體數(shù)字,但業(yè)界將SK海力士和美光都視為14nm級DRAM。美光沒有應用EUV,而SK海力士只在一層應用了EUV。


三星電子雖然量產有點晚,但通過拉大技術差距,在未來的DRAM競爭中獲得了優(yōu)勢。特別是基于14nm工藝和高成熟度EUV工藝技術,實現(xiàn)差異化性能和穩(wěn)定良率,是引領DDR5DRAM普及的戰(zhàn)略。




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