[導(dǎo)讀]10月12日消息,三星宣布開(kāi)始量產(chǎn)基于極紫外光(EUV)技術(shù)的14nmDRAM。繼去年3月三星推出首款EUVDRAM后,又將EUV層數(shù)增加至5層,為其DDR5解決方案提供當(dāng)下更為優(yōu)質(zhì)、先進(jìn)的DRAM工藝。三星電子高級(jí)副總裁兼DRAM產(chǎn)品與技術(shù)主管JooyoungLee表示,“通過(guò)...
10月12日消息,三星宣布開(kāi)始量產(chǎn)基于極紫外光(EUV)技術(shù)的14nm DRAM。繼去年3月三星推出首款EUV DRAM后,又將EUV層數(shù)增加至5層,為其DDR5解決方案提供當(dāng)下更為優(yōu)質(zhì)、先進(jìn)的DRAM工藝。
三星電子高級(jí)副總裁兼DRAM產(chǎn)品與技術(shù)主管Jooyoung Lee表示,“通過(guò)開(kāi)拓關(guān)鍵的圖案(key patterning)技術(shù),三星活躍全球DRAM市場(chǎng)近三十年。如今,三星正通過(guò)多層EUV技術(shù),樹(shù)立了一座新的技術(shù)里程碑,實(shí)現(xiàn)了更加微型化的14nm工藝,而這也是傳統(tǒng)氟化氬(ArF)工藝無(wú)法做到的。在此基礎(chǔ)上,三星將繼續(xù)提供極具差異化的內(nèi)存解決方案,充分滿足5G、人工智能和元宇宙等數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)的時(shí)代對(duì)更高性能和更大容量的需求?!?/span>
隨著DRAM工藝不斷縮小至10nm范圍,EUV技術(shù)變得越來(lái)越重要,因?yàn)樗芴嵘龍D案準(zhǔn)確性,從而獲得更高性能和更大產(chǎn)量。通過(guò)在14nm DRAM中應(yīng)用5個(gè)EUV層,三星實(shí)現(xiàn)了自身最高的單位容量,同時(shí),整體晶圓生產(chǎn)率提升了約20%。此外,與上一代DRAM工藝相比,14nm工藝可幫助降低近20%的功耗。
根據(jù)最新DDR5標(biāo)準(zhǔn),三星的14nm DRAM將有助于釋放出之前產(chǎn)品所未有的速度:高達(dá)7.2Gbps,比DDR4的3.2Gbps快兩倍多。
三星計(jì)劃擴(kuò)展其14nm DDR5產(chǎn)品組合,以支持?jǐn)?shù)據(jù)中心、超級(jí)計(jì)算機(jī)和企業(yè)服務(wù)器應(yīng)用。另外,三星預(yù)計(jì)將其14nm DRAM芯片容量提升至24Gb,以更好滿足全球IT系統(tǒng)快速增長(zhǎng)的數(shù)據(jù)需求。
值得注意的是,今年1月,美光宣布10nm級(jí)第4代(1a)DRAM量產(chǎn)成功,SK海力士也于7月開(kāi)始量產(chǎn)應(yīng)用EUV的1a DRAM。雖然他們沒(méi)有指明具體數(shù)字,但業(yè)界將SK海力士和美光都視為14nm級(jí)DRAM。美光沒(méi)有應(yīng)用EUV,而SK海力士只在一層應(yīng)用了EUV。
三星電子雖然量產(chǎn)有點(diǎn)晚,但通過(guò)拉大技術(shù)差距,在未來(lái)的DRAM競(jìng)爭(zhēng)中獲得了優(yōu)勢(shì)。特別是基于14nm工藝和高成熟度EUV工藝技術(shù),實(shí)現(xiàn)差異化性能和穩(wěn)定良率,是引領(lǐng)DDR5DRAM普及的戰(zhàn)略。
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