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[導(dǎo)讀]針對DRAM廠明年獲利分析,集邦科技(TRENDFORCE)旗下研究部門DRAMeXchange指出,明年DRAM均價較今年下跌約30%。然而隨著制程轉(zhuǎn)進、成本下降,DRAM廠營業(yè)利益率(OPMargin)成本優(yōu)勢最佳者,今年營業(yè)利益率平均為36%,明

針對DRAM廠明年獲利分析,集邦科技(TRENDFORCE)旗下研究部門DRAMeXchange指出,明年DRAM均價較今年下跌約30%。然而隨著制程轉(zhuǎn)進、成本下降,DRAM廠營業(yè)利益率(OPMargin)成本優(yōu)勢最佳者,今年營業(yè)利益率平均為36%,明年平均為26%;而成本優(yōu)勢落后者,今年下半年轉(zhuǎn)虧為盈,明年營業(yè)利益率約可維持在10%上下。

DRAMeXchange表示,今年下半年DRAM產(chǎn)業(yè)制程加速4xnm轉(zhuǎn)進,產(chǎn)出增加將帶動價格下跌,然而價格下跌將刺激DRAM搭載量趨勢往4GB以上,預(yù)估DRAM均價于今年第四季向下修正。此外,面對三星(Samsung)擴大資本支出,產(chǎn)能增加及技術(shù)轉(zhuǎn)進,其它DRAM廠也積極強化其競爭力。

DRAMeXchange指出,策略規(guī)劃與未來發(fā)展的方向分析方面,海力士(Hynix)將2010年資本支出調(diào)高近1/3達26億美元,加速44nm制程及NANDFlash3xnm之技術(shù)轉(zhuǎn)進。美光(Micron)陣營方面,在50nm轉(zhuǎn)進同時加速42nm制程研發(fā),預(yù)計于Q310開始投片量產(chǎn)。臺灣廠商南科與華亞科計劃二度調(diào)高資本支出,加速浸潤式機臺采購進度與美光同步42nm制程技轉(zhuǎn)。

日本爾必達(Elpida)陣營則今年提升在廣島廠行動內(nèi)存投片比重,將標準型DRAM生產(chǎn)重心移往臺灣瑞晶;目前瑞晶已正式量產(chǎn)63nm制程,42nm制程預(yù)計七月正式投片。力晶則規(guī)劃加強代工與NANDFlash的比例,未來朝標準型DRAM、代工業(yè)務(wù)與NANDFlash三大事業(yè)體多元化發(fā)展。

華邦則決定淡出標準型DRAM,業(yè)務(wù)發(fā)展優(yōu)先級依次為NORFlash、繪圖內(nèi)存、行動內(nèi)存,同時在取得奇夢達46nm技術(shù),自行再研發(fā)生產(chǎn)46nm。茂德則是出售新竹二廠,集中資源于中科廠,積極導(dǎo)入爾必達63nm制程技術(shù)。

三星于5月中旬宣布今年內(nèi)存事業(yè)群將投資金額由原先的5.5兆韓元(約48億美元),加碼到9兆韓元(約78億美元),并將興建20萬片的12吋晶圓廠Line16、17,生產(chǎn)DRAM與NANDFlash,投片計劃則視當時市場而定。

估計三星新廠房、無塵室興建及設(shè)備移入時間約需一年,最快明年第三季可投片生產(chǎn),產(chǎn)出則在明年第四季,今年下半年將擴充現(xiàn)有Line-15的產(chǎn)能并開始轉(zhuǎn)進35納米DDR3。該公司今年也將在SystemLSI業(yè)務(wù)方面投資約2兆韓元(17億美元),以因應(yīng)手機與數(shù)字電視等產(chǎn)品對系統(tǒng)級芯片(SoC)的強勁需求,同時強化晶圓代工業(yè)務(wù)。

三星今年大幅提升其資本支出,使三星占整體DRAM產(chǎn)業(yè)資本支出比例由往年約25%大幅提升至41%,主要加重研發(fā)及廠房設(shè)備投資,全部臺系DRAM廠資本支出今年約占整體產(chǎn)業(yè)34%。今年第一季三星DRAM方面的營收約30億美元,市占率達32%,在資本支出增加、產(chǎn)能擴充及技術(shù)轉(zhuǎn)進下,預(yù)估三星DRAM營收市占率在今年下半年將突破35%,2011年將突破40%。

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