光源對于光刻機的重要性不言而喻，沒有光源的匹配，一切圖形成像都無從談起。從1986年開始，Cymer正式進入半導體產(chǎn)業(yè)，目前已有超過3500套光源安裝在世界各地的光刻設備上。Cymer所占的市場份額已近70%，儼然已成為世界光源制造領域的領頭羊。

“平板電腦和智能手機等新應用激發(fā)起了市場的熱情，兩者的年增長率分別有望超過50%和28%。這股市場熱潮極有可能延續(xù)至2014年，同樣也將驅(qū)使半導體新片制造繼續(xù)快速增長?！盋ymer市場及光刻應用副總裁Nigel Farrar表示，“Logic和Foundry將會繼續(xù)為32/28nm擴大產(chǎn)能，65/45nm產(chǎn)品依然會保持現(xiàn)有的需求。但是我們也看到，由于新技術的成本高，第一梯隊與第二梯隊之間的距離正在進一步拉大?！?/p>

DUV依然是目前絕大多數(shù)新片制造商所采用的光刻設備，Cymer除已有的優(yōu)勢外，還為雙重掩膜應用開發(fā)了60－90W可調(diào)節(jié)的power管理產(chǎn)品XLR 600i，以及可根據(jù)曝光要求而調(diào)節(jié)的30－50W光源 7010。

“對于新片制造商來說，提高生產(chǎn)力、降低成本是永恒的追求。在光源系統(tǒng)中，激光的產(chǎn)生是依靠氣體激發(fā)進行的。而氣體做為耗材，在整個生產(chǎn)過程中需要不斷補充，由此產(chǎn)生的停機維護時間是不小的浪費。針對這一問題，Cymer研發(fā)了iGLX產(chǎn)品，它可進行自動的氣體供給優(yōu)化，不再需要人工進行氣體補充，從而提高了設備的生產(chǎn)能力。”Nigel Farrar說。

每當人們談及EUV的挑戰(zhàn)時，光源功率總是逃不開的話題。根據(jù)Cymer的技術發(fā)展路線圖，在2011年量產(chǎn)的第一階段，Cymer提供的EUV光源功率將>100W；第二階段為2011-2013，功率將>250W；到了第三階段，即2013-2016年，功率將大于350W。最近，Cymer已向ASML出貨了第三套3100EUV光源。與此同時，2010年Q4第一套EUV3100光源已安裝于一家存儲器制造商的生產(chǎn)線上。EUV的發(fā)展一路上伴隨著的是爭議和高研發(fā)成本，Nigel Farrar對EUV的未來應用表示非常樂觀，并會繼續(xù)EUV的研發(fā)投入，在2011年會實現(xiàn)LPP EUV光源的商品化。

?HVMⅠ?HVMⅡ?HVMⅢ

Driver Laser Power (kW)?25?35?37

In-band CE(%)?3?3.5?4

Collection Efficiency (sr)?5?5.5?5.5

Collector Reflectivity (%)?50?50?50

Clean EUV Power (W)?>100?>250?>350

Cymer EUV Source Power Roadmap

早在2005年，Cymer即開始投入FPD和LED領域。有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)的大規(guī)模量產(chǎn)在很大程度上是因為缺乏低成本的低溫多晶硅制程而有所延宕，Cymer的TCZ細光束結(jié)晶激光回火工具填補了這項空隙。“Cymer公司的光源一直用于產(chǎn)生更小的集成電路圖形，但是利用 Cymer公司在市場上領先的準分子光源技術，可制造出適用于低溫多晶硅(LTPS)的細光束結(jié)晶激光設備。不僅提升了OLED制造的產(chǎn)量與質(zhì)量、節(jié)省了費用，同事也拓展了Cymer的技術應用領域。”據(jù)悉， Cymer的第二套TCZ Gen 4設備已安裝在一位亞洲客戶生產(chǎn)線。

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