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凸版、IBM發(fā)表支持22nm/20nm半導(dǎo)體制造之光罩技術(shù)

時(shí)間：2010-09-11 07:53:00

關(guān)鍵字： IBM 半導(dǎo)體制造制程技術(shù) 半導(dǎo)體

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[導(dǎo)讀]全球光罩(Photo Mask)大廠凸版印刷(Toppan Printing)9日發(fā)布新聞稿宣布，已于今(2010)年9月在旗下朝霞光罩工廠(埼玉縣新座市)內(nèi)建構(gòu)了與IBM所共同研發(fā)完成的新光罩制程技術(shù)，該制程技術(shù)可支持22nm/20nm半導(dǎo)體產(chǎn)品的制

全球光罩(Photo Mask)大廠凸版印刷(Toppan Printing)9日發(fā)布新聞稿宣布，已于今(2010)年9月在旗下朝霞光罩工廠(埼玉縣新座市)內(nèi)建構(gòu)了與IBM所共同研發(fā)完成的新光罩制程技術(shù)，該制程技術(shù)可支持22nm/20nm半導(dǎo)體產(chǎn)品的制造，凸版印刷并已針對(duì)研發(fā)22nm/20nm半導(dǎo)體產(chǎn)品的廠商，整備了試產(chǎn)用及量產(chǎn)用光罩供應(yīng)體制。新聞稿指出，此次所研發(fā)的新光罩制程技術(shù)細(xì)節(jié)將于9月13-16日期間于美國(guó)蒙特雷市舉行的先端光罩會(huì)議「2010 SPIE Photomask Technology conference」上發(fā)表。凸版印刷與IBM于2005年就開(kāi)始共同研發(fā)支持45nm半導(dǎo)體產(chǎn)品的先端光罩技術(shù)，之后并于2009年將支持對(duì)象提升至32nm/28nm等級(jí)。

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摩爾定律死不死，真的重要嗎？為何半導(dǎo)體行業(yè)行業(yè)要為此爭(zhēng)論不休？

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[模擬技術(shù)]

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RISC-V要想構(gòu)建類(lèi)似ARM或x86的生態(tài)，可能要花費(fèi)10年甚至20年時(shí)間

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IBM發(fā)布2022財(cái)年第三季度財(cái)報(bào)。季度總營(yíng)收為141.07億美元，與去年同期的132.51億美元相比增長(zhǎng)6%；凈虧損為31.96億美元，去年同期的凈利潤(rùn)為11.30億美元；來(lái)自于持續(xù)運(yùn)營(yíng)業(yè)務(wù)的虧損為32.14億美元；不...

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