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[導(dǎo)讀]思源近期積極拓展與晶圓代工龍頭臺(tái)積電合作,15日宣布其Laker系統(tǒng)獲得臺(tái)積電開(kāi)發(fā)的28奈米模擬與混合訊號(hào)(AMS)參考流程 1.0認(rèn)證合格。未來(lái)思源將Laker系統(tǒng)整合到臺(tái)積電參考流程,產(chǎn)生具LDE(Layout Dependent Effect)認(rèn)

思源近期積極拓展與晶圓代工龍頭臺(tái)積電合作,15日宣布其Laker系統(tǒng)獲得臺(tái)積電開(kāi)發(fā)的28奈米模擬與混合訊號(hào)(AMS)參考流程 1.0認(rèn)證合格。未來(lái)思源將Laker系統(tǒng)整合到臺(tái)積電參考流程,產(chǎn)生具LDE(Layout Dependent Effect)認(rèn)知功能的設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)方法,提高布局質(zhì)量與設(shè)計(jì)流程生產(chǎn)力,以最新制造流程實(shí)現(xiàn)芯片設(shè)計(jì)與更佳的設(shè)計(jì)重復(fù)利用。

思 源指出,臺(tái)積電28奈米AMS參考流程具備同級(jí)最佳設(shè)計(jì)工具與方法,解決更小、更先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)所導(dǎo)致的挑戰(zhàn),并克服芯片 設(shè)計(jì)的復(fù)雜性;建立臺(tái)積電與EDA供貨商之間的協(xié)作平臺(tái)與合作模式,透過(guò)以臺(tái)積電28奈米高效能制程技術(shù)為后端設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)流程,實(shí) 現(xiàn)混合式(多重供貨商)前端功能設(shè)計(jì)的可行性。

這個(gè)流程以業(yè)界標(biāo)準(zhǔn) OpenAccess (OA)數(shù)據(jù)庫(kù)為基礎(chǔ),使用臺(tái)積電可相互操作制程設(shè)計(jì)套件(interoperable Process Design Kit;iPDK),在1.6 GHz操作的ARM相位鎖定回路(Phase-Locked Loop;PLL)電路作為參考設(shè)計(jì)。

思 源進(jìn)一步指出,與臺(tái)積電合作開(kāi)發(fā)的全新Laker具LDE認(rèn)知功能系統(tǒng)提供在線LDE分析,能夠在布局時(shí)標(biāo)示組件效能的偏差。這 些功能也讓工程師們得以輕松地找出并檢視違反電子與布局限制的地! 方。這種具LDE認(rèn)知功能的方法縮短了布局前后模擬之間的設(shè)計(jì)循 環(huán),也在硅芯片投產(chǎn)之前解決了40奈米與28奈米制程相關(guān)效應(yīng)。

思源客 制化IC產(chǎn)品營(yíng)銷(xiāo)處長(zhǎng)Duncan McDonald指出,臺(tái)積電的28奈米參考流程是半導(dǎo)體業(yè)界的重要里程碑,對(duì)于希望在這個(gè)制程 駕馭高延展性效能、密度與功耗優(yōu)勢(shì)的客制化芯片設(shè)計(jì)工程師而言尤其重要。

由 于擁有完整的OA標(biāo)準(zhǔn)與TSMC iPDK量產(chǎn)支持,Laker系統(tǒng)與臺(tái)積電的28奈米AMS設(shè)計(jì)流程中其他供貨商的工具密切整合, 提供具LDE認(rèn)知的自動(dòng)化技術(shù),確保最高質(zhì)量的布局與最高效益的設(shè)計(jì)流程。

近 期以來(lái),思源積極拓展與臺(tái)積? X作,日前也宣布,其LAKER系統(tǒng)支持臺(tái)積電的40奈米可相互操作制程設(shè)計(jì)套件。這是以思源所支持 臺(tái)積電65奈米R(shí)F制程iPDK為基礎(chǔ),預(yù)計(jì)在2010年第2季結(jié)束,40奈米與65奈米臺(tái)積電iPDKs都將可搭配Laker Custom Layout Automation System量產(chǎn)使用。

思 源指出,兩家公司之間的合作起因于彼此對(duì)于可相互操作PDKs的支持,為客制化芯片設(shè)計(jì)人員提供制造彈性、技術(shù)選擇與設(shè)計(jì)生產(chǎn)力。思 源是可相互操作IPL聯(lián)盟(Interoperable PDK Library Alliance;IPL)的創(chuàng)始會(huì)員,也是臺(tái)積電65奈米 iPDK的驗(yàn)證伙伴。



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