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[導(dǎo)讀]臺積電(2330)昨(22)日宣布,將取得艾司摩爾(ASML)超紫外光 (Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,將使得臺積在22奈米以下的最先進制程領(lǐng)先全球。 臺積電目前40奈米擁有90%以上高市占率,今 將舉行一年一度

臺積電(2330)昨(22)日宣布,將取得艾司摩爾(ASML)超紫外光 (Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,將使得臺積在22奈米以下的最先進制程領(lǐng)先全球。

臺積電目前40奈米擁有90%以上高市占率,今 將舉行一年一度的內(nèi)部業(yè)務(wù)周,臺積電董事長張忠謀將親自出席主持。臺股昨日進入農(nóng)歷年后第一天就開出紅盤,臺積電昨日上漲0.6元,收盤價59元。

臺積電大客戶--英偉達 (nVidia)日前指出,臺積電40奈米產(chǎn)能嚴(yán)重不足,目前仍有1至1.5億美元的產(chǎn)值不夠出貨,因此,這次臺積電業(yè)務(wù)周,重點可能擺在如何全力擴充先進制程產(chǎn)能,以因應(yīng)客戶更多需求。

業(yè)界也指出,臺積電今年研發(fā)技術(shù)以28奈米為重鎮(zhèn),22奈米以下的市場,臺積電也積極卡位,希望能贏得更高市占率。

隨著IC組件進入28奈米以下的開發(fā),掌握微影技術(shù)的主控權(quán),就等于卡位先進制程的領(lǐng)導(dǎo)地位,包括國際大廠如英特爾、IBM力拱EUV技術(shù),都陸續(xù)找上ASML配合,一起研發(fā)EUV顯影機臺。



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