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[導(dǎo)讀]繼Intel、美光上個月宣布投產(chǎn)25nm NAND閃存芯片后,韓國兩大存儲廠三星和海力士近日也宣布了自家的30nm以下工藝NAND閃存投產(chǎn)計劃。海力士將采用26nm工藝生產(chǎn)容量為64Gb的NAND閃存芯片,這和Intel、美光首批投產(chǎn)的25n

繼Intel、美光上個月宣布投產(chǎn)25nm NAND閃存芯片后,韓國兩大存儲廠三星海力士近日也宣布了自家的30nm以下工藝NAND閃存投產(chǎn)計劃。

海力士將采用26nm工藝生產(chǎn)容量為64Gb的NAND閃存芯片,這和Intel、美光首批投產(chǎn)的25nm芯片容量一致。而三星則計劃在今年第二季度投產(chǎn)27nm NAND閃存。

海力士表示,和30nm工藝相比,新工藝的閃存芯片的產(chǎn)能將翻一番,成本也將大幅度降低。根據(jù)韓國當?shù)孛襟w的報道,海力士將在今年第三季度開始量產(chǎn) 26nm閃存芯片。在這一點上三星已經(jīng)占據(jù)了先機,三星稱他們在去年就完成了對27nm NAND閃存芯片的研發(fā),并計劃在今年二季度進行量產(chǎn)。

不過三星海力士并沒有透露,新工藝芯片是否采用了MLC存儲技術(shù)。

根據(jù)市場調(diào)研公司IC Insights的統(tǒng)計,全球NAND閃存市場今年的收入將達到188億美元,占據(jù)半導(dǎo)體市場總收入的7%,高于去年的154億美元。

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