
圖像傳感器包括CCD與CMOS兩種。其中,CCD是“電荷耦合器件”(Charge Coupled Device)的簡(jiǎn)稱,CMOS是“互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體”(Complementary Metal Oxide Semiconductor)的簡(jiǎn)稱。CCD是1970年美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室的W·B·B
CMOS的555(ICM7555)構(gòu)成的定時(shí)電路b
CMOS的555(ICM7555)構(gòu)成的定時(shí)電路a
國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局今日在網(wǎng)上公布了《集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)公告(2013年11月15日)》,布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)就是布圖設(shè)計(jì)的創(chuàng)作人或者其他權(quán)利人對(duì)布圖設(shè)計(jì)所享有的權(quán)利,具體來說,就是指國(guó)家依據(jù)有關(guān)集成電路的法律規(guī)
比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導(dǎo)體。IMEC的新制程目標(biāo)是希望能持續(xù)微縮CMOS 至7nm 及其以下,以及實(shí)現(xiàn)混合CMOS-RF 與CMOS 光電元件的化合物
比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3DFinFET化合物半導(dǎo)體。IMEC的新制程目標(biāo)是希望能持續(xù)微縮CMOS至7nm及其以下,以及實(shí)現(xiàn)混合CMOS-RF與CMOS光電元件的化合物。隨著
比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導(dǎo)體。IMEC的新制程目標(biāo)是希望能持續(xù)微縮CMOS 至7nm 及其以下,以及實(shí)現(xiàn)混合CMOS-RF 與CMOS 光電元件的化合物
訊:比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導(dǎo)體。IMEC的新制程目標(biāo)是希望能持續(xù)微縮CMOS 至7nm 及其以下,以及實(shí)現(xiàn)混合CMOS-RF 與CMOS 光電元件的化
比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導(dǎo)體。IMEC的新制程目標(biāo)是希望能持續(xù)微縮 CMOS 至 7nm 及其以下,以及實(shí)現(xiàn)混合 CMOS-RF 與 CMOS 光電元件的化
訊:11月8日,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公布了《集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)公告(2013年11月8日)》,據(jù)悉,世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織于1989年5月通過了《關(guān)于集成電路的知識(shí)產(chǎn)權(quán)條約》。以下是國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局《集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)
如圖所示,這個(gè)簡(jiǎn)單的電路在電平檢測(cè)器中使用一個(gè)LM311,并且用一個(gè)CMOS模擬電門來釋放電容。這種計(jì)數(shù)器的一大特點(diǎn)就是數(shù)可以改變。只有當(dāng)比較器運(yùn)行地較快時(shí)才需要改變電壓的大小。用相同的道理可以設(shè)計(jì)出一個(gè)價(jià)格便
21ic訊 日前,Vishay Intertechnology, Inc.(NYSE 股市代號(hào):VSH)宣布,推出具有1.5Ω低導(dǎo)通電阻的新款±15V精密單片4路單刀單擲(SPST)CMOS模擬開關(guān)--- Vishay Siliconix DG1411、DG1412和DG1413。今天推出
器件導(dǎo)通電阻低至1.5Ω,具有11pF的CS(OFF)的低寄生電容、100ns的開關(guān)時(shí)間和0.033μW的功耗21ic訊 日前,Vishay Intertechnology, Inc.宣布,推出具有1.5Ω低導(dǎo)
FD SOI(全耗盡型SOI)最近重新進(jìn)入業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)。Intel、TSMC等企業(yè)已決定在22、14nm節(jié)點(diǎn)走向FinFET之路;而作為FD SOI技術(shù)的主要支持者,如IBM、STMicroelectronics、GlobalFoundries等,認(rèn)為在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上FD SOI
新日本無線推出的這款單電路軌至軌輸出的CMOS運(yùn)放 NJU77806 的獨(dú)特之處是同時(shí)具有業(yè)界最低噪聲 (5.5nV/√Hz typ. at f=1kHz) 和低功耗 (1.8V,500uA) 兩種特性,還備有良好的寬帶特性 (GBP=4.4MHz) 和強(qiáng)RF噪聲
CMOS問世比TTL較晚,但發(fā)展較快,大有后來者居上、趕超并取代之勢(shì)。1、組成結(jié)構(gòu)CMOS電路是互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體電路(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)的英文字頭縮寫,它由絕緣場(chǎng)效應(yīng)晶體管組成,由于只有
ULN2003和ULN2004有哪些區(qū)別?這個(gè)ULN2003A和ULQ2003A有2.7 -kΩ系列為每個(gè)達(dá)靈頓基地電阻對(duì)操作直接與TTL或5 v CMOS設(shè)備。這個(gè)ULN2004A和ULQ2004A有10.5 -kΩ系列基礎(chǔ)電阻器允許操作直接從CMOS設(shè)備使用供應(yīng)
眾所周知,晶體管要分成多種類型。其中,MOSFET作為基礎(chǔ)器件由于其優(yōu)越性能得到了廣泛的應(yīng)用。但是目前使用的場(chǎng)效應(yīng)管存在兩個(gè)被學(xué)術(shù)界稱為PN結(jié)的結(jié)構(gòu)。正常工作時(shí)源極和襯底間的PN結(jié)始終處于正向?qū)顟B(tài),所以在一
以CMEMS技術(shù)生產(chǎn)的振蕩器,正逐漸在市場(chǎng)上嶄露頭角。CMEMS技術(shù)系在單晶粒中整合CMOS和MEMS電路,以實(shí)現(xiàn)更高整合度的MEMS振蕩器,可消除傳統(tǒng)雙晶粒MEMS振蕩器和石英振蕩器的諸多缺陷,并提高溫度和頻率穩(wěn)定性,因而備
和 iPhone 5c 相比,iPhone 5s 的升級(jí)更有誠意:64 位 A7 芯片、M7 協(xié)處理器和 Touch ID 指紋傳感器都能激起人們的期待。iFixit 提前拿到機(jī)器,一份翔實(shí)的拆機(jī)報(bào)告趕在 iPhone 5s 發(fā)售時(shí)出爐。來了解下 iPhone