
力成科技積極自?xún)?nèi)存封測(cè)業(yè)務(wù)往先進(jìn)封裝技術(shù)布局,繼先前買(mǎi)下茂德廠(chǎng)房以作為實(shí)驗(yàn)工廠(chǎng)后,轉(zhuǎn)投資公司聚成科技的新竹廠(chǎng)也在3月動(dòng)土,預(yù)計(jì)2012年第3季裝機(jī)試產(chǎn)。力成董事長(zhǎng)蔡篤恭表示,實(shí)驗(yàn)工廠(chǎng)以開(kāi)發(fā)新技術(shù)為主,包括晶
力成科技積極自?xún)?nèi)存封測(cè)業(yè)務(wù)往先進(jìn)封裝技術(shù)布局,繼先前買(mǎi)下茂德廠(chǎng)房以作為實(shí)驗(yàn)工廠(chǎng)后,轉(zhuǎn)投資公司聚成科技的新竹廠(chǎng)也在3月動(dòng)土,預(yù)計(jì)2012年第3季裝機(jī)試產(chǎn)。力成董事長(zhǎng)蔡篤恭表示,實(shí)驗(yàn)工廠(chǎng)以開(kāi)發(fā)新技術(shù)為主,包括晶
美國(guó)矽晶圓大廠(chǎng)MEMC Electronic Materials, Inc. 1日在股市開(kāi)盤(pán)前發(fā)布新聞稿指出,旗下子公司已同意終止中國(guó)大陸太陽(yáng)能電池生產(chǎn)巨擘尚德電力控股(Suntech Power Holdings)的太陽(yáng)能矽晶圓長(zhǎng)期供應(yīng)合約,此約最初于200
Intel,臺(tái)積電等巨頭企業(yè)已經(jīng)決定先后在22/14nm節(jié)點(diǎn)走上Finfet之路,這樣一來(lái),另一條路--FDSOI方面的進(jìn)展?fàn)顩r便顯得格外引人注目。最近,在日本東京召開(kāi)了2011年半導(dǎo)體技術(shù)國(guó)際會(huì)議(Symposium on VLSI Technology)
據(jù)IHSiSuppli公司的研究,2010年無(wú)晶圓制造半導(dǎo)體公司擴(kuò)大了在全球微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)市場(chǎng)的份額,去年占總體MEMS營(yíng)業(yè)收入的近四分之一。 2010年無(wú)晶圓制造半導(dǎo)體公司占總體MEMS營(yíng)業(yè)收入的23.2%,高于四年前
Intel,臺(tái)積電等巨頭企業(yè)已經(jīng)決定先后在22/14nm節(jié)點(diǎn)走上Finfet之路,這樣一來(lái),另一條路FDSOI方面的進(jìn)展?fàn)顩r便顯得格外引人注目。最近,在日本東京召開(kāi)了2011年半導(dǎo)體技術(shù)國(guó)際會(huì)議(SymposiumonVLSITechnology),會(huì)
應(yīng)用材料公司本周三推出了新款VantageVulcanRTP快速退火設(shè)備,這款RTP機(jī)型采用了晶圓背面加熱技術(shù),可以顯著改善RTP處理中晶圓表面芯片核心內(nèi)部各部分的溫度均一性。應(yīng)用半導(dǎo)體公司硅系統(tǒng)集團(tuán)前端制程用設(shè)備部門(mén)的總
不久前在日本京都舉行的VLSI技術(shù)研討會(huì)上提交的研究結(jié)果顯示,采用超薄襯底的SOI晶圓和22納米工藝制造的器件和采用體硅晶圓、22納米工藝制造的器件相比,性能的提高達(dá)到了25%。包括MEMC、SEH、Soitec等在內(nèi)的幾家主要
不久前在日本京都舉行的VLSI技術(shù)研討會(huì)上提交的研究結(jié)果顯示,采用超薄襯底的SOI晶圓和22納米工藝制造的器件和采用體硅晶圓、22納米工藝制造的器件相比,性能的提高達(dá)到了25%。包括MEMC、SEH、Soitec等在內(nèi)的幾家主要
應(yīng)用材料公司本周三推出了新款Vantage Vulcan RTP快速退火設(shè)備,這款RTP機(jī)型采用了晶圓背面加熱技術(shù),可以顯著改善RTP處理中晶圓表面芯片核心內(nèi)部各部分的溫度均一性。 新型晶體管設(shè)計(jì)需要的RTP退火處理項(xiàng)目圖解
Intel,臺(tái)積電等巨頭企業(yè)已經(jīng)決定先后在22/14nm節(jié)點(diǎn)走上Finfet之路,這樣一來(lái),另一條路FDSOI方面的進(jìn)展?fàn)顩r便顯得格外引人注目。最近,在日本東京召開(kāi)了2011年半導(dǎo)體技術(shù)國(guó)際會(huì)議(Symposium on VLSI Technology),
在臺(tái)積電(2330)、聯(lián)電及中芯國(guó)際等晶圓代工廠(chǎng)的產(chǎn)能松動(dòng)下,中芯國(guó)際與IC設(shè)計(jì)業(yè)達(dá)成共識(shí),90奈米制程第三季代工價(jià)格降15%、65奈米制程降價(jià)10%;半導(dǎo)體業(yè)者預(yù)期,降價(jià)的趨勢(shì)恐怕延到今年第四季。臺(tái)積電和聯(lián)電昨(27)日都
不久前在日本京都舉行的VLSI技術(shù)研討會(huì)上提交的研究結(jié)果顯示,采用超薄襯底的SOI晶圓和22納米工藝制造的器件和采用體硅晶圓、22納米工藝制造的器件相比,性能的提高達(dá)到了25%。包括MEMC、SEH、Soitec等在內(nèi)的幾家主要
受到上游客戶(hù)在6月中下旬開(kāi)始調(diào)整庫(kù)存影響,日月光6月?tīng)I(yíng)收成長(zhǎng)動(dòng)能走弱,第2季營(yíng)收季增率恐落在原先預(yù)估的7%下緣,第3季雖然維持成長(zhǎng),但成長(zhǎng)幅度已趨緩,今年季增率將低于過(guò)去旺季期間10%以上的成長(zhǎng)幅度。日月光營(yíng)
據(jù)IHS iSuppli公司的研究,2010年無(wú)晶圓制造半導(dǎo)體公司擴(kuò)大了在全球微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)市場(chǎng)的份額,去年占總體MEMS營(yíng)業(yè)收入的近四分之一。 2010年無(wú)晶圓制造半導(dǎo)體公司占總體MEMS營(yíng)業(yè)收入的23.2%,高于四年前的21.3
連于慧/臺(tái)北 矽晶圓供應(yīng)商臺(tái)勝科27日指出,第3季半導(dǎo)體矽晶圓價(jià)格已談完,預(yù)計(jì)將較第2季上漲10~20%,雖然2011年半導(dǎo)體成長(zhǎng)力道趨緩,且第3季展望保守,但因?yàn)橹笆艿饺毡?11地震影響,客戶(hù)庫(kù)存仍短少約1個(gè)月,加上
在臺(tái)積電(2330)、聯(lián)電及中芯國(guó)際等晶圓代工廠(chǎng)的產(chǎn)能松動(dòng)下,中芯國(guó)際與IC設(shè)計(jì)業(yè)達(dá)成共識(shí),90奈米制程第三季代工價(jià)格降15%、65奈米制程降價(jià)10%;半導(dǎo)體業(yè)者預(yù)期,降價(jià)的趨勢(shì)恐怕延到今年第四季。 臺(tái)積電和聯(lián)電昨
受到歐債危機(jī)及美國(guó)失業(yè)率居高不下等負(fù)面因素影響,電子產(chǎn)品終端需求能見(jiàn)度轉(zhuǎn)差,為了避免芯片庫(kù)存水位上升太快,臺(tái)積電及聯(lián)電客戶(hù)上周起要求遞延出貨。據(jù)設(shè)備業(yè)者透露,臺(tái)積電第3季營(yíng)收季增率恐降至5%左右,聯(lián)電則
受到歐債危機(jī)及美國(guó)失業(yè)率居高不下等負(fù)面因素影響,電子產(chǎn)品終端需求能見(jiàn)度轉(zhuǎn)差,為了避免芯片庫(kù)存水位上升太快,臺(tái)積電及聯(lián)電客戶(hù)上周起要求遞延出貨。據(jù)設(shè)備業(yè)者透露,臺(tái)積電第3季營(yíng)收季增率恐降至5%左右,聯(lián)電則
DM廠(chǎng)委外代工和行動(dòng)裝置內(nèi)建晶片封測(cè)訂單持續(xù)涌入,市場(chǎng)預(yù)期封測(cè)大廠(chǎng)日月光(2311-TW)第2季封測(cè)業(yè)務(wù)將季增7%,第3季營(yíng)收表現(xiàn)也看俏?;ㄆ飙h(huán)球證券表示,日月光第2季營(yíng)運(yùn)目標(biāo)可達(dá)陣,但第3季半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)有雜音,因匯